半導體檢測服務廠汎銓（6830）近日宣布，其在竹北的新廠建設計畫已正式啟動，這一高規格廠房的建設旨在滿足埃米世代材料分析的需求。公司董事長柳紀綸表示，此舉是為了因應大客戶的需求，並進一步鞏固汎銓在先進製程材料分析市場的競爭優勢。汎銓指出，隨著埃米世代的來臨，材料分析的解析度和穩定性要求大幅提升，新廠將配備球差校正TEM和極低干擾環境設施，以支持先進製程的研發驗證。

新廠設施提升競爭優勢

汎銓的新廠房採用單樓層獨立防振基礎與三層鋼骨耐震結構設計，提供最高規格的電鏡操作條件。此外，該廠房還具備低溫ALD和超薄試片製備技術，這些設施將為汎銓在未來十年奠定材料分析的競爭優勢。董事長柳紀綸強調，汎銓在美國矽谷的據點使其在關稅議題上受益，進一步增強了公司在全球市場的競爭力。

三大業務動能助力未來發展

汎銓將憑藉材料分析（MA）、AI晶片暨矽光子檢測分析技術等優勢，增強「埃米世代製程材料分析」、「矽光子測試及光衰漏光斷光分析」以及「AI客戶專區」三大業務動能。這些業務的增長預計將為公司未來的營運前景帶來積極影響，進一步鞏固其在半導體檢測市場的領導地位。

未來觀察重點

汎銓的新廠建設進度及其對營運的實質影響將是未來的重要觀察指標。此外，公司在埃米世代材料分析技術的進一步突破，以及在全球市場的布局也值得持續關注。投資者應留意這些動向，以評估其對汎銓未來業績的潛在影響。

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