巨頭齊聚技術大會與擴產布局

近日全球半導體微影設備龍頭艾司摩爾(ASML)迎來兩大市場焦點。首先，特斯拉執行長馬斯克受邀出席於6月9日至10日舉辦的ASML閉門技術大會，向內部員工探討旗下大型半導體工廠計畫「Terafab」；該計畫預期運用2奈米製程生產AI晶片，且台灣相關供應鏈已與其展開接觸。另一方面，執行長福克公開呼籲歐盟減少監管干預，指出當前亞洲占其銷售額近80%、歐洲僅占1%。為因應AI資料中心強勁的晶片需求，公司正積極推進以下營運目標：

• 預計於今年內將最先進極紫外光(EUV)微影設備產能提升50%
• 於費爾德霍溫總部周邊推進新廠區的擴建計畫
• 持續投入資金強化本地供應鏈以突破法規與招募限制

艾司摩爾(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

公司成立於1984年，為全球半導體製造光刻系統的領導廠商。其核心的光刻工具是協助台積電、三星與英特爾等晶片大廠突破5奈米先進製程節點的關鍵，在推動同一矽面積上電晶體數量增加的技術進程中，具備高度的市場份額與技術地位。

近期股價變化

觀察最新交易數據，在2026年6月8日，股價呈現顯著上揚。當日開盤價為1732.7900，盤中最高觸及1769.4900、最低來到1719.0200，最終收盤於1749.0400，單日上漲107.3000，漲幅達6.54%。在交易熱度方面，當日成交量落在2062087，較前一交易日變動-24.87%。

後續觀察重點

總結而言，ASML在先進製程設備的市場份額，使其成為AI應用與大型晶圓廠建設潮下的重要關注標的。後續投資人可留意企業法說會中關於新產能擴充的實際進度，以及歐盟監管政策對其新廠設立與全球供應鏈布局的潛在影響。

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