近期AI算力需求持續擴增，帶動先進製程設備訂單，ASML正全力擴張極紫外光(EUV)曝光機產能。最新消息顯示，公司今年計畫生產至少60台EUV設備，相較2025年產量成長36%，並將全年銷售預期最高調升至470億美元。

為突破產能瓶頸，公司採取以下重點策略：

• 於全球多個關鍵據點擴充潔淨室產能，今年資本支出預計達22億美元。
• 透過提供現有平台的升級方案，延長設備性能壽命。

此外，由內部員工設計的EUV機台樂高模型近期也引發話題，該模型在內部售出逾千組，並在二手市場出現溢價，展現其獨特的企業文化。

艾司摩爾(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

ASML成立於1984年，總部位於荷蘭，為全球光刻系統市場的領導者。晶片製造商須依賴其下一代EUV工具突破5奈米製程節點。公司產品被各大半導體製造商廣泛採用，主要客戶包括英特爾、三星與台積電等大廠。

近期股價變化

觀察ASML於2026年5月4日的交易數據，開盤價為1401.77美元，盤中最高達1417.07美元，最低1366.79美元。終場收在1386.21美元，較前一交易日下跌40.81美元，跌幅2.86%。當日成交量為175萬5713股，成交量變動達148.29%。

綜合來看，公司受惠AI相關的先進製程設備需求，積極擴產並調升營收預估，營運維持動能。然而近期股價出現下跌且成交量顯著放大，投資人後續可持續關注高階設備交付進展與供應鏈擴張狀況，並審慎評估市場波動風險。

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