艾司摩爾(ASML)公布2026年第一季財報，淨營收達88億歐元，符合公司先前預期的財測目標。財務長羅傑·達森指出，安裝基數營收達25億歐元，略高於原先預期。受惠於安裝基數的強勁表現與高毛利產品組合，第一季毛利率高達53%，成功觸及財測高標，單季淨利則達到28億歐元。

第二季展望樂觀，AI基建帶動爆發性需求

針對2026年第二季展望，艾司摩爾(ASML)預估總淨營收將落在84億至90億歐元之間，安裝基數營收預計維持25億歐元，毛利率則落在51%至52%。執行長克里斯托夫強調，在AI基礎設施投資的強烈推動下，半導體產業的成長動能持續穩固。

市場對先進記憶體和邏輯晶片的需求，預計在可預見的未來將持續超越供應量。這股熱潮不僅帶來了涵蓋AI、手機到個人電腦等終端市場的產能限制，更促使客戶積極擴產。目前記憶體客戶的2026年產能已全數售罄，而邏輯晶片客戶也正跨節點擴充產能，並全力推進2奈米製程以滿足龐大的AI晶片需求。

產能計畫加速推進，全年營收上調至400億

為因應強勁的市場需求，艾司摩爾(ASML)正與客戶密切合作，透過新系統出貨與效能升級來提供支援。公司預估2026年極紫外光(EUV)低數值孔徑系統的產量將達到至少60台。儘管深紫外光(DUV)浸潤式設備在今年初表現較緩，但全年銷量仍有望追平去年水準。若客戶需求持續增長，2027年EUV低數值孔徑系統產量可望進一步提升至至少80台。

基於市場需求升溫，財務長達森宣布將2026全年淨營收預期收窄並上調至360億至400億歐元，全年毛利率預期則維持在51%至53%。同時他強調，非EUV設備的市場需求也有所增加，目前的營收展望已經將出口管制討論的潛在影響納入考量之中。

高數值孔徑設備突破，大幅縮減製程步驟

在技術藍圖方面，艾司摩爾(ASML)持續取得重大進展。公司最新展示的1000瓦EUV光源，預計能在2031年讓低數值孔徑設備的吞吐量躍升至每小時330片晶圓。此外，現有系統的吞吐量也正穩步提升，以滿足近期的產能缺口。

備受市場矚目的高數值孔徑系統同樣迎來好消息。根據客戶初步測試的實際回饋，採用高數值孔徑設備能將極紫外光的光罩數量從3個大幅減少至1個，更能將特定製程步驟從100個濃縮至10個。隨著設備可用性與良率持續改善，將為先進製程帶來革命性的生產效率提升。

穩居光刻機市場霸主，掌握半導體發展命脈

艾司摩爾(ASML)成立於1984年，總部位於荷蘭，是用於半導體製造的光刻系統市場領導者。光刻是使用光源將電路圖案從光罩曝光到半導體晶片上的關鍵過程。晶片製造商必須仰賴艾司摩爾(ASML)的下一代EUV光刻設備，才能持續突破5奈米以下的先進製程節點。其產品被全球各大半導體製造商廣泛採用，包含英特爾(INTC)、三星與台積電(TSM)等業界巨頭。

在最新交易日中，艾司摩爾(ASML)收盤價為1481.77美元，下跌36.53美元，跌幅2.41%，單日成交量達4,237,180股，成交量較前一日變動139.50%。

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