美國跨黨派議員近日提出「硬體技術控制多邊一致性法案」(MATCH Act)，旨在進一步防堵中國獲取關鍵晶片製造設備。該草案引發市場對艾司摩爾(ASML)在中國市場銷售可能進一步萎縮的擔憂，導致其在歐洲的股價承壓下挫。提案議員指出，美國盟友未完全同步實施出口管制，讓中國得以利用漏洞持續發展半導體產業。

成熟製程設備恐面臨全面禁令

美國過去幾年已對中國實施多項半導體出口管制，艾司摩爾(ASML)最先進的極紫外光(EUV)光微影設備也早已禁止銷往中國。然而，該公司用於製造記憶體等成熟製程晶片的深紫外光(DUV)設備，仍有部分可合法出口。一旦新法案順利通過，連帶DUV設備也將面臨全面禁令。公司稍早曾預估，在新規尚未出爐前，今年中國市場占總營收比例將下滑至約20%。

法人估禁令恐帶來約5%營收衝擊

針對潛在的財務影響，法人機構 Quilter Cheviot 科技研究主管分析，舊款光微影設備約占公司整體營收的10%至15%，其中中國市場占比約一半，意味著全面禁令可能帶來約5%的營收衝擊，但影響程度將隨時間遞減。ODDO BHF 研究主管則表示，法案雖處於早期階段，但已形成地緣政治壓力，若全面實施將引發短期訂單波動，並對中期業績造成顯著壓力。

中國晶片廠缺乏替代方案恐遭重創

儘管美國過去的限制促使中國積極尋找替代方案，甚至在部分領域試圖突破輝達(NVDA)等國際大廠的技術封鎖，但成熟製程設備仍存在致命弱點。目前中芯國際與華虹等中國主要晶片製造商，仍高度仰賴艾司摩爾(ASML)的DUV設備來生產成熟製程晶片。分析師強調，由於全球幾乎沒有其他DUV光微影機的替代選項，若美國新規獲准上路，將嚴重顛覆中國的半導體製造能力。

艾司摩爾(ASML)穩居全球光微影霸主地位

艾司摩爾(ASML)成立於1984年，總部位於荷蘭，是全球半導體製造光微影系統市占率的領導品牌。光微影是利用光源將電路圖案從光罩曝光到半導體晶圓上的製程，最新技術讓晶片製造商能持續增加矽晶圓上的電晶體數量，並成為尖端晶片製程中成本占比極高的一環。各大廠需依賴其下一代EUV工具來突破5奈米製程節點，主要客戶包含英特爾(INTC)、三星與台積電(TSM)。根據最新市場數據，艾司摩爾(ASML)前一交易日收盤價為1304.01美元，下跌13.22美元，跌幅1.00%，單日成交量達1,299,180股，較前一日減少31.02%。

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