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引進極紫外光微影設備提升次世代製程
韓國晶片製造商SK海力士(HXSCL)週二透過監管文件宣布，將向荷蘭半導體設備巨擘艾司摩爾(ASML)採購價值12兆韓元（約79億美元）的先進生產設備。根據報導，這批極紫外光微影設備預計將於2027年12月前完成交貨，主要用於升級次世代晶片生產製程，以滿足市場對高階技術的渴望。
擴大高頻寬記憶體產能以因應AI產業爆發
這項重大投資決策的背後，正值SK海力士(HXSCL)積極擴充記憶體晶片產能的關鍵時期。受惠於人工智慧產業快速發展所帶動的強勁需求，公司正全力推動高頻寬記憶體等關鍵零組件的生產規模，期望透過先進設備的導入，確保在記憶體市場中的長期競爭優勢。
傳計畫赴美掛牌上市尋求百億美元資金
此外，根據韓國經濟日報的另一份報導指出，SK海力士(HXSCL)目前正積極評估在美國市場掛牌上市的可能性。這項潛在的掛牌計畫預期將能為公司籌集約10兆至15兆韓元（約100億美元）的資金，這筆鉅額款項將能為後續的海外擴張與技術研發計畫提供充沛的財務支援。
穩居輝達主要供應商並面臨同業競爭挑戰
在當前的人工智慧硬體供應鏈中，SK海力士(HXSCL)穩坐輝達(NVDA)最主要的高頻寬記憶體供應商寶座。儘管市場競爭日益激烈，包含三星電子(SSNLF)與美光(MU)目前也開始供應較小規模的產品，但SK海力士(HXSCL)憑藉積極的資本支出與產能規劃，依然維持其在關鍵市場中的領先地位。
