極紫外光設備市場動向與營運展望

艾司摩爾(ASML)在極紫外光微影設備領域具備獨佔優勢，其技術門檻需要長達二十年的累積與每年數十億美元投入，使競爭對手難以複製。儘管近期設備訂單創新高且主要客戶投資強勁，但受資金自人工智慧半導體板塊撤出影響，近期股價自高點回落。

外資法人機構研究指出，艾司摩爾(ASML)相較於其他美國大型半導體設備同業的估值溢價，已從2022年底的120%大幅下降至目前的約20%。針對後續營運展望，市場主要關注以下發展動能：

• 動態隨機存取記憶體發展路線圖中，對極紫外光設備的需求被市場低估
• 新一代高數值孔徑機台可靠性提升，預期將推動客戶進行設備升級
• 預估到2026年將有60套新設備投入使用，至2027年進一步增至68套

艾司摩爾(ASML)：近期個股表現

基本面亮點

總部位於荷蘭的艾司摩爾為全球半導體光刻系統的市場領導者，主要採取委外製造零件並進行組裝的營運模式。其極紫外光設備是晶片製造商跨越5奈米製程節點的關鍵，目前產品廣受各大半導體製造商採用，核心客戶涵蓋台積電、三星與英特爾等晶圓製造大廠。

近期股價變化

觀察2026年3月20日的最新交易數據，該股開盤價為1357.2550美元，盤中最高來到1370.0000美元，最低下探至1291.1000美元，終場收在1317.2500美元。單日下跌49.1400美元，跌幅達3.60%，單日成交量為2645128股，成交量較前一交易日增加63.37%。

綜合來看，艾司摩爾(ASML)在先進製程設備的技術護城河依然穩固，近期估值溢價縮小已引起市場重新評估其位階。投資人後續可持續關注新一代高數值孔徑設備的實際出貨進度，以及記憶體廠採用相關設備的動向，將是判斷未來營運動能與半導體週期的潛在指標。

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