根據 Reuters 報導，半導體設備大廠 ASML(ASML) 近日展示了極紫外光（EUV）微影設備在光源技術上的重大進展。這項技術升級有望在 2030 年前，將晶片製造的產量大幅提升 50%，為全球半導體產能帶來顯著的增長動能。

拒絕紙上談兵！實測功率達1000瓦展現量產實力

ASML(ASML) 首席技術專家 Michael Purvis 在位於聖地牙哥附近的辦公室受訪時強調：「這不是耍花招，也不是那種只能短暫展示可行性的實驗。」他指出，這是一套能夠在符合客戶所有生產要求的前提下，穩定輸出 1,000 瓦功率的系統。科羅拉多州立大學教授 Jorge J. Rocca 向媒體表示，目前 EUV 光源的功率約為 600 瓦，因此躍升至 1,000 瓦代表著相當顯著的技術跨越。

技術藍圖清晰可見，未來功率上看2000瓦

除了展示現有的成果，Purvis 也描繪了未來的發展願景。他表示，ASML(ASML) 希望能持續推進這項技術，突破 1,000 瓦的門檻以進一步鞏固市場地位。Purvis 向 Reuters 透露：「我們已看到通往 1,500 瓦的清晰路徑，且沒有根本性的理由能阻止我們達到 2,000 瓦的目標。」這顯示公司在提升設備效能上的技術儲備相當充足。

鞏固獨佔地位，台積電與Intel為主要客戶

目前 ASML(ASML) 是全球唯一的極紫外光（EUV）微影設備製造商，其設備是晶圓代工龍頭台積電(TSM)、Intel(INTC) 等大廠製造先進處理器不可或缺的關鍵。儘管市場上出現了如 Substrate 和 xLight（去年底獲得川普政府 1.5 億美元資助）等新創公司，試圖挑戰 ASML(ASML) 的市場壟斷地位，但 ASML(ASML) 正透過提升技術門檻來捍衛其領先優勢。在股價表現部分，ASML(ASML) 股價在週一早盤呈現微幅下跌。

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