ASML推出全新極紫外光刻機光源技術，預計至2030年可提升晶片生產效率50%，引發業界關注。

ASML近日在加州聖地牙哥辦公室展示了一項突破性的光源技術，該技術有潛力使其極紫外（EUV）光刻機的晶片產量提高50%。ASML首席技術專家邁克爾·普維斯表示，這不是短暫的演示，而是能夠持續執行的系統，並且在所有客戶要求下能達到1000瓦特的輸出。

目前，EUV光源的功率為600瓦特，普維斯指出，增加至1000瓦特是一個相當大的飛躍。ASML是全球唯一一家生產EUV光刻機的公司，其產品被臺積電、英特爾等半導體廠商廣泛使用。然而，市場上也出現了如Substrate和xLight等初創企業，試圖挑戰ASML的市場主導地位。

普維斯對未來技術的發展充滿信心，他提到，公司希望能繼續推進技術，目標是達到1500瓦特甚至2000瓦特。他強調，這一進展不僅會增強ASML的競爭優勢，也有助於整個半導體產業的發展。儘管ASML股價在週一交易中輕微下跌，但市場仍然對其前景保持樂觀。

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